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导师简介

张鹏展

供稿: | 发表日期:2022-09-22 14:12:02 | 点击数:

硕导个人简介

姓名

张鹏展

性别

出生年月

19815

职称

副教授

学历/学位

研究生/工学博士

Email

pzzhang@jit.edu.cn

办公电话

18168092706

通信地址

南京江宁区弘景大道99号金陵科技学院电子信息工程学院

邮编

211169

专业名称

电子科学与技术

研究方向

硅基光电集成材料与器件、铁电存储材料与器件

个人简介

中共党员,副教授、硕士生导师,电子信息工程学院电子科学与技术系副主任。2016年毕业于南京大学并获工学博士学位。曾任中芯国际集成电路制造有限公司半导体研发部PC-RAM资深副工程师,现为江苏省人工智能学会智能传感器与芯片专委会委员、南京市集成电路行业协会联络员。长期从事半导体光电集成材料与器件研究,首次在固态a-SiNx:O系统中成功获得高达80%的荧光发射内量子产额,解释了相应复合机制;迄今以第一作者在APLOE等学术期刊上公开发表论文20余篇,他引累计一百多次。主持省市级科研项目5项,参与国家级和省市级项目10项。

主讲课程

及教学成果

主讲数字电路、半导体物理、电子测量与仪器分析等专业课。近五年以第一作者公开发表教改论文2篇,主持省市级教改项目2项;指导学生参加全国大学生电子设计大赛与集成电路创新创业大赛,累计获省级以上奖项4次;指导学生完成江苏省大学生科技创新项目3项,授权实用新型专利7项、软著6项。获全国大学生集成电路创新创业大赛优秀指导教师、校教师教学创新大赛三等奖、校“‘课程思政建设优秀教师、校“‘课程思政微课竞赛二等奖、校优秀学业导师等荣誉称号。

代表性成果

 

近五年以第一作者公开发表的科研论文:

[1] Pengzhan   Zhang,* Leng Zhang, Yaozhen Wu, Sake Wang, and Xuefeng Ge, High   photoluminescence quantum yields generated from N-Si-O bonding states in   amorphous silicon oxynitride films. Opt. Express, 2018, 26, 31617–31624. (SCI期刊)

[2] Pengzhan   Zhang,* Leng Zhang, Sake Wang, and Xuefeng Ge, Tunable Luminescent a-SiNxOy   Films with High Internal Quantum Efficiency and Fast Radiative Recombination   Rates. Materials 2018, 11, 2494. (SCI期刊)

[3] Pengzhan   Zhang,* Leng Zhang, Renxiang Cheng, Jin Zhang, Fei Liu, and Yukui Li, Study   on the electrothermal effect of dielectric materials under electric field.   Materials Science and Engineering 2018, 452, 022060. (EI期刊)

[4] Pengzhan   Zhang,* Fei Liu, Renxiang Cheng, Jin Zhang, Leng Zhang, and Yukui Li, 烧结温度对反应烧结氮化硅铁复合材料物相组成及力学性能的影响.   功能材料. 2019, 03,   03165. (北大中文核心期刊)

[5] Pengzhan   Zhang,* Sake Wang, Kunji Chen, and Xinglong Wu, Investigation on the   luminescent stability in amorphous silicon oxynitride systems. Eur. Phys. J.   Appl. Phys. 2020, 89, 10304. (SCI期刊)

 

近期在研项目

 

目前主持在研的科研项目:

1、硅光集成高荧光量子产额a-SiNxOy系统瞬态动力学研究(No. 2017M621711);国家自然科学基金委员会、中国博士后科学基金面上项目;201801~202212

2、新型微结构硅氧氮薄膜光电材料与器件特性研究(No. M34010);南京大学、固体微结构物理国家重点实验室开放课题;202201~202306

3、金陵科技学院学术骨干培养对象(No.202008);金陵科技学院、学术拔尖人才培养工程; 202001~202312